多功能寬密度等離(lí)子體(tǐ)

巨納集團NextCVD系列多功能寬密度等離(lí)子體(tǐ)CVD（ICP-LP-PE-CVD）結合了電(diàn)感耦合和電(diàn)容耦合輝光放(fàng)電(diàn)的優點，可在寬密度工(gōng)藝範圍（109-1013 cm-3)實現穩定的等離(lí)子體(tǐ)輔助CVD，具有優良的材料處理性能和廣泛的應用範圍，是目前功能強大(dà)的等離(lí)子體(tǐ)CVD系統。

NextCVD 的原創性高密度低頻(pín)平闆式電(diàn)感耦合等離(lí)子體(tǐ)系統。頻(pín)率可調節，從低頻(pín)0.5- 4MHz範圍内調節；電(diàn)感天線是平闆式，可根據客戶要求改變天線的形狀、大(dà)小(xiǎo)，從而實現兩種不同的放(fàng)電(diàn)模式：電(diàn)感放(fàng)電(diàn)和電(diàn)容放(fàng)電(diàn)，兩種模式下(xià)都能實現穩定放(fàng)電(diàn)，兩種模式的等離(lí)子體(tǐ)特性截然不同，可以實現不同的功能。

多功能寬密度等離(lí)子體(tǐ)等離(lí)子體(tǐ)改性及刻蝕産品特點

基片台可電(diàn)動旋轉、可加熱、可升降

配裝手動高真空插闆閥、手動角閥、電(diàn)腦複合真空計

由于采用了超高真空密封技術，極限真空度高，沉積室可進入10-5Pa量級，可保證更高的鍍膜純淨度，提高鍍膜質量

自動監控和保護功能，包括缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護等

配備可開(kāi)關觀察窗，方便觀察及取樣品

設備真空系統采用分(fēn)子泵+機械泵真空機組

采用磁力耦合傳動密封技術密封運動部件

真空規用金屬規，刀口金屬密封

性能技術參數

設備極限真空度：5.0×10-5Pa（等離(lí)子體(tǐ)沉積腔室）。5.0×10-1Pa進樣室

高密度等離(lí)子體(tǐ)：電(diàn)子密度高能達到1013 cm-3

氣體(tǐ)物(wù)離(lí)化率：1-10%

電(diàn)感耦合離(lí)子體(tǐ)電(diàn)源發生(shēng)器頻(pín)率從0.5-4 MHz可調，功率可從0-5000 W調節

電(diàn)感天線有橢圓和圓形兩種，相應等離(lí)子源石英窗口形狀也有橢圓和圓形兩種，相應等離(lí)子體(tǐ)放(fàng)電(diàn)模式也有電(diàn)感和電(diàn)容模式兩種，可根據用途選擇。等離(lí)子體(tǐ)源石英窗口大(dà)小(xiǎo)可根據要求進行調節

供電(diàn)：～380V三相供電(diàn)系統（容量7KW），冷卻水循環量1M3/H，工(gōng)作環境溫度10℃～35℃，冷卻水溫度18℃～25℃

設備占用面積12M2（設備安裝面積4M×3M）

進樣室上方窗口（玻璃橡膠圈密封）：￠20cm

沉積室抽氣口在底部，樣品架的兩邊抽氣，有利于薄膜的均勻沉積

設備總體(tǐ)漏放(fàng)率：關機12小(xiǎo)時後，真空度≤10Pa

從大(dà)氣到抽到≤7×10-4Pa，小(xiǎo)于45min(新設備充幹燥氮氣)，提高了工(gōng)作效率

樣品台可旋轉，速度：0～25轉／分(fēn) 可控可調。（樣品台尺寸￠200mm）

基片尺寸￠6英寸（根據用戶需要可變）

樣品台加熱器溫度：室溫～500±1℃。溫度可控可調

基片最大(dà)升降距離(lí)0～100mm可調

配備2支￠3英寸磁控靶，其中(zhōng)一(yī)支可鍍鐵磁材料，磁控靶可伸縮

磁控濺射靶電(diàn)源：射頻(pín)源 500W、13.56MHz；直流濺射電(diàn)源，500W

缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護

應用領域：

光伏行業（氮化矽/非晶矽/微晶矽/等離(lí)子體(tǐ)織構與刻蝕）

新型二維材料（石墨烯/二硫化钼等的表面改性及制備）

半導體(tǐ)工(gōng)藝（刻蝕工(gōng)藝/氮化矽與二氧化矽工(gōng)藝等）

納米材料的生(shēng)長與納米形貌的刻蝕構造

石墨烯氫等離(lí)子體(tǐ)可控改性

氩等離(lí)子體(tǐ)可控改性：引入空位缺陷

氫等離(lí)子體(tǐ)可控改性：引入SP3缺陷