全息數字顯微鏡

數字全息顯微鏡DHM® 的縱向精度是由激光的本征波長來校準的，因此提供了激光幹涉級别的高精度和高可重複性的量測數據。縱向分(fēn)辨率達到了亞納米，橫向分(fēn)辨率則由所選物(wù)鏡決定。
另外(wài)得益于對所記錄全息圖的先進數字重建運算，DHM® 可數值選取所需聚焦的像面(數字自動聚焦)。這一(yī)功能也允許用戶在數據記錄後重新尋找聚焦像面，而無需再調整樣品實際高度。

全息數字顯微鏡

反射式數字全息顯微鏡(DHM® -R)，非掃描非接觸無損測量，顯示靜态和動态三維形貌，表征周期振動。

全息數字顯微鏡

超高速記錄動态三維形貌：
DHM® 采用非掃描機制，采集單幀圖像既能記錄樣品表面三維形貌，因此擁有其他技術無法匹敵的圖像采集速度。使用标準相機采集速度爲視頻(pín)速率30幀/秒，而高速相機可以達到1000幀/秒，使得以下(xià)應用變爲可能：
研究可形變樣品三維動态響應
表面大(dà)區域掃描分(fēn)析
高産量常規檢測
生(shēng)産線在線三維形貌捕捉

MEMS測振分(fēn)析，高可達25MHz
頻(pín)閃模塊(可選配件)可同步DHM® 測量時激光脈沖與 MEMS器件的激勵信号，獲取振動周期内的全視場振動模态。 這些*的分(fēn)析數據可提供以下(xià)信息：
三維形貌時序圖
頻(pín)率共振分(fēn)析和響應分(fēn)析
面内面外(wài)振幅分(fēn)析(面内振幅測量精度1nm，面外(wài)振幅測量精度5pm)
複雜(zá)運動表征，振動模态表征，樣品動态三維形貌

多種可控環境下(xià)測量
*的光學原理和光路設計使得DHM® 能夠滿足使用者在各種環境下(xià)的測量需求，提供靈活和便利的測量體(tǐ)驗：
透過玻璃(蓋玻片、載玻片、玻璃窗口)或者浸潤液
觀測環境控制箱或真空腔内部樣品，可改變環境參數，比如溫度、濕度、氣壓、氣體(tǐ)成分(fēn)等

測量透明樣品三維形貌
得益于DHM® 多激光源配置，通過反射分(fēn)析軟件(可選配件)可以表征透明薄膜樣品，包括：
透明結構表面形貌
多層透明薄膜組成結構的厚度、折射率，測量範圍可從10納米至幾十微米
柔性材料或是液體(tǐ)的形貌

三維形貌時序圖: 水滴蒸發的全過程

反射式數字全息顯微鏡DHM® -R擁有三種型号，主要區别在于不同的激光源數量：
> R1000型配備單激光源，是測量平滑表面和振動的理想工(gōng)具。
> R2100型配備可以同時使用的雙激光源，在測量複雜(zá)表面和非連續結構時更有優勢。
> R2200型是在R2100型基礎上擴展了第三個激光源，增加測量範圍的同時，也增添了針對半透明薄膜 結構的測量能力。

反射式數字全息顯微鏡DHM® R2100

R1000 系列

DHM®-R1000系列配置單波長激光源，可以爲您的樣品提供實時三維檢測，擁有亞納米級分(fēn)辨率，動态可測垂直台階高度爲333nm，而對于連續表面動态可測高度則達到了200μm。R1000系列是反射式DHM®的zui基本配置，性價比優勢突出，使用極其便利。

适用範圍包括平滑表面、樣品形貌、以及不超過333nm陡直台階等。

DHM R1000系列光路示意圖

R2100 系列

DHM®-R2100是按照能夠同時使用雙波長激光源測試的規格設計的，擁有亞納米級分(fēn)辨率，動态可測垂直台階高度達到了2.1 μm，對于連續表面動态可測高度同樣爲200 μm。

兩個激光源擁有各自不同的參考光光路，但共用物(wù)光光路，主要優勢在于：

可測垂直台階高度增加到了2.1 μm

可以自由切換使用單、雙激光源進行實時測試

Mapping算法保證在可測垂直台階高度範圍内的亞納米測量精度

DHM®-R2100家族系列能夠使用相機同時記錄兩束光分(fēn)别産生(shēng)的幹涉條紋并投射到同一(yī)幅全息圖上，之後還能對兩束光分(fēn)别進行數字重建。 兩束光源産生(shēng)的合成波長使得動态可測垂直台階擴展到了2.1 μm，這些過程均在視頻(pín)速率下(xià)完成。

DHM R1000系列光路示意圖

使用雙光源系統與使用單光源系統相比一(yī)樣便利。視不同被測樣品情況，使用者可以自由切換使用單/雙光源模式以獲取不同可測台階範圍。

另外(wài)，通過結合單光源與合成光源的測量數據，在單光源模式下(xià)的亞納米垂直測量精度能夠利用功能強大(dà)的Mapping算法适用到雙光源模式。

DHM® 雙光源的原理

R2100 系列提供雙光源測試模式，光源 λ_1 和光源λ_2将産生(shēng)一(yī)個波長爲Λ的合成光源。同時合成光源測試，在保持亞納米級精度的同時，将動态可測垂直台階高度增加到了2.1 μm，而對于連續表面動态可測高度同樣爲200 μm。

當然，雙光源系統的兩個光源也可以各自獨立單獨使用。

R2200 系列

DHM®-R2200 是按照三波長激光源的規格設計的，擁有亞納米級分(fēn)辨率，動态可測垂直台階高度達到了12 μm，對于連續表面動态可測高度同樣爲200 μm。

DHM®-R2200 系列全息顯微鏡在實時測量方面達到了一(yī)個全新的高度。創新的光路設置包括了共用的物(wù)光光路以滿足三光源配置。三個光源允許使用兩組不同的雙光源組合，也就是說有兩個不同波長的合成光源供選擇：

• 動态可測垂直台階高度範圍增加到了12 μm

• 可以自由切換使用單、雙激光源進行實時測試

• Mapping算法保證在可測垂直台階高度範圍内的亞納米測量精度

• 使用雙光源測量與單光源同樣的便利性

  DHM®-R2200 系列除了擁有三光源，在其他方面與DHM®-R2100系列有着同樣的特點和功能。 DHM®-R2200 系列能夠使用相機同時記錄兩束光分(fēn)别産生(shēng)的幹涉條紋并投射到同一(yī)幅全息圖上，之後還能對兩束光分(fēn)别進行數字重建。 兩束光源産生(shēng)的合成波長使得動态可測垂直台階擴展到了12 μm，這些過程均在視頻(pín)速率下(xià)完成。

DHM R2200系列光路示意圖

使用三光源系統與使用單光源系統相比一(yī)樣便利。視不同被測樣品情況，使用者可以自由切換使用單/雙光源模式以獲取不同可測台階範圍。

DHM®-R2200系列配置的第三光源用來與另外(wài)兩個光源結合使用。 因此在雙光源使用模式下(xià)擁有一(yī)個短合成光波長和長合成光波長，進一(yī)步拓寬了動态測試範圍。DHM®-R2200系列的兩種合成波長分(fēn)别爲6 μm 和30 μm，對于動态可測垂直台階高度分(fēn)别爲2.1 μm和12 μm。

另外(wài)，通過結合單光源與合成光源的測量數據，在單光源模式下(xià)的亞納米垂直測量精度能夠利用功能強大(dà)的Mapping算法适用到雙光源模式。

由于測量和圖像抓取速率快，DHM® 可以有效避免環境振動對測量帶來的影響，防止出現圖像模糊的情況。實時顯示的三維動态形貌保證了DHM® 使用的便利高效，而測量可以通過垂直相幹掃描模式增加到厘米量級。

DHM® 雙光源的原理

R2200 系列提供兩組雙光源測試模式，光源 λ_1 和光源λ_2将産生(shēng)一(yī)個長合成波長Λ光源，在保持亞納米級精度的同時，将動态可測垂直台階高度增加到了12 μm，而對于連續表面動态可測高度同樣爲200 μm。

另外(wài)，光源 λ_1 和光源λ_3也可以合成一(yī)個短合成波長Λ光源，在保持亞納米級精度的同時，将動态可測垂直台階高度增加到了2.1 μm。

Mapping算法保證在可測垂直台階高度範圍内的亞納米測量精度，每個光源也可以各自單獨使用。

參數指标

性能